所有コスト

洗浄不要、長期寿命、経費節減

SiFusionは半導体製造に使用される熱処理炉治具の新しいコストパフォーマンスの基準を設定するものです。

高温拡散、LPCVDなどの熱処理炉によるプロセスは、ウェハ製造の主要プロセス工程のうち最高30%を占めます。従って、熱処理工程全体にわたるコスト改善は製造業者にとってかなりの経費節減をもたらします。

SiFusion治具は耐用年数が長く、炉のダウンタイムが短縮でき、洗浄の必要がなくなるため、所有コストの大幅な削減につながります。高温による工程に使用された場合のSiFusion製品の寿命は、4年以上におよびます。

LPCVD、高温熱処理いずれの場合でも、SiFusionポリシリコン製品の所有コストはシリコンカーバイド製品より低く、石英製品に比べるとはるかに低いものです。

熱処理炉の総所有コストに影響する要素：

第三者機関による定量分析では、窒化シリコンプロセスの場合、SiFusion熱処理炉用部品は上記各要素の点で、石英およびシリコンカーバイド製の消耗部品より優れた性能を持つという分析結果が出ています。

従来のシリコンカーバイドおよび石英製品に比べ、SiFusion製品が示すその他の優位性について、詳しくは下記の資料をご覧ください：

SiFusion熱処理炉用治具は、生産性低下の主な原因となっている、予防保全作業による炉のダウンタイムを大幅に短縮します。

SiFusion高純度ポリシリコン製治具は、パーティクルの発生、汚染およびスリップを低減します。